離子植入法　Ion Implantation。

是半導體摻雜的式之一。將欲加入的雜質先離子化，提昇雜質的能量或動能，接著，利用電場加速離子運動速度及磁場改變運動方向，將經離子化的雜質直接打入矽晶片內，使雜質原子擴散進入矽晶片內部。